半导体产品清洗解决方案：清洗的好处有哪些

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　　电子清洗技术(包括清洗剂和相应的清洗工艺)对电子工业特别是半导体工业的生产非常重要。在半导体器件和集成电路的制造过程中，几乎每一道工序都涉及清洗。集成电路的集成度越高，制造工序越多，需要清洗的工序也就越多。在很多清洗工艺中，只要有一道工艺不符合要求，就会放弃之前的工作，导致整批芯片报废。

　　在芯片制造的过程中，需要专门的水来保证产品的清洁度，而生产后的清洗是保证良率非常重要的一点。

　　在晶圆生产的整个过程中，要进行多次化学腐蚀和清洗。每一步蚀刻和清洗后，用水冲洗。由于半导体器件非常容易受到污染，因此必须对工艺水进行相应的处理，以达到一定程度的清洁度。

　　普通自来水中含有矿物质、盐类、有机化合物等，会对晶圆产生重大影响。

　　因此，通过反渗透和离子交换系统去除晶圆中使用的水。去除离子的水通常称为去离子水。正常去离子水在室温下的电阻为10兆欧，用紫外线去除水中的细 菌。

　　半导体清洗技术是指在氧化、光刻、外延、扩散、铅蒸发等半导体制造工艺之前，通过物理或化学方法去除污染物和自氧化物的过程。

　　污染物是半导体器件性能、可靠性和成品率的主要威胁。研究表明，高达80%的芯片电气故障是由污染引起的缺陷造成的。

　　污染物通常以原子、离子、分子、粒子或膜的形式存在，通过化学或物理吸附存在于硅片表面或硅片氧化膜中。