半导体清洗材料部分含有挥发性有机化合物(VOCs)。
许多传统的半导体清洗溶剂,如一些有机溶剂,是含有 VOCs 的。例如,丙酮、乙醇等有机溶剂在清洗过程中会挥发。这些有机溶剂能够有效地去除半导体表面的有机污染物,如油脂、光刻胶残留等。它们通过溶解污染物的方式来达到清洗目的,在这个过程中,有机溶剂分子会从液态转变为气态,进入周围的空气中,从而产生 VOCs 排放。
然而,随着半导体制造技术的发展和环保要求的日益严格,行业越来越倾向于使用低 VOCs 或者无 VOCs 的清洗材料。例如,一些水性清洗液正在被广泛应用。水性清洗液主要成分是水,添加了一些表面活性剂和其他助剂,它们可以在较低的温度下对半导体表面进行清洗,而且挥发性较低,大大减少了 VOCs 的产生。
半导体清洗材料中 VOCs 的存在与否及含量多少具有重要影响。从环境角度来看,VOCs 是形成光化学烟雾和细颗粒物(PM2.5)的前体物质之一。高浓度的 VOCs 排放会对空气质量造成严重污染,并且在半导体制造工厂集中的区域,这种污染可能会对周边生态环境和居民健康产生负面影响。从生产工艺角度讲,含有高浓度 VOCs 的清洗材料可能会对生产设备造成损害。例如,VOCs 的挥发可能会在设备表面形成沉积物,影响设备的精度和性能,同时也存在一定的安 全隐患,如有机溶剂蒸汽可能会引发火灾或爆炸等危险情况。
为了降低半导体清洗材料中的 VOCs,制造商一方面在研发新型的清洗配方,如开发绿色环保的清洗溶剂和清洗工艺;另一方面,也在对清洗设备进行改进,例如安装有效的废气收集和处理系统,在 VOCs 排放到大气之前将其捕获和处理,以减少对环境的危害。