SMT钢网清洗液和半导体清洗剂是什么？

半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。

1.产品用途

半导体水基清洗剂主要用于清洗被石蜡、油脂和油脂聚合物化合物污染的表面，以及被金属原子和金属离子污染的表面。它可以完全替代半导体分立器件和中小型集成电路中传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。

2.产品特点

该清洗剂的清洗效果相当于或略优于传统清洗工艺，但成本大大降低，仅为传统清洗工艺成本的10~30%。无 毒、无腐蚀性，对人体无伤害，对环境无害，经济效益显著。

3.使用过程

配制清洗液时，将去离子水加热至40-60℃，但不超过60℃。也可以用室温去离子水配制。然后按照以下体积比进行准备。水基清洗剂：去离子水=1:19。将准备好的水基清洗剂倒入石英杯中。清洗液应浸入硅片或晶体中。然后将石英杯放入超声波清洗设备中（应向槽中加入适量去离子水）进行超声波清洗约5分钟，倒出清洗液，然后用热去离子水冲洗约5分钟以进行清洗。

4.注意事项

这个产品是碱性的。如果本产品不小心溅到皮肤上，请立即用清水冲洗。如病情严重，应及时就医。

5.包装储存

塑料桶包装，可根据客户要求。储存于阴凉通风的仓库内。